离子截面抛光仪(截面刻蚀抛光研磨)
主要特点
1. 全数字控制系统
2. 研磨过程可分多段控制
3. 误操作保护系统
4. 可对各种材料进行截面及平面抛光
技术规格
1. 离子源
高压电源:0.1 - 10KV
气 体:氩气(或其他气体)
气 体 流:<0.1sccm/数字控制
2. 样品台:旋转、摆动(可设定任意角度)
3. 软件环境:ubuntu系统
4. 软件:
①质量流量控制系统
②高压控制系统
③真空度控制系统
④停机控制系统
5. 硬件:
①彩色触摸屏
②控制主机;
③嵌入式主板
④全数字控制进气质量
⑤双高压离子源,可独立控制
6. 真空系统:机械泵+分子泵
7. 样品冷却:半导体或液氮冷却(选配)