离子截面抛光仪（截面刻蚀抛光研磨）

主要特点

1. 全数字控制系统

2. 研磨过程可分多段控制

3. 误操作保护系统

4. 可对各种材料进行截面及平面抛光

技术规格

1. 离子源

高压电源：0.1 - 10KV

气 体：氩气(或其他气体)

气 体 流：<0.1sccm/数字控制

2. 样品台:旋转、摆动(可设定任意角度）

3. 软件环境：ubuntu系统

4. 软件：

①质量流量控制系统

②高压控制系统

③真空度控制系统

④停机控制系统

5. 硬件：

①彩色触摸屏

②控制主机；

③嵌入式主板

④全数字控制进气质量

⑤双高压离子源，可独立控制

6. 真空系统：机械泵+分子泵

7. 样品冷却：半导体或液氮冷却（选配）