离子减薄仪

1、离子源

（1）离子能量：0.1-10千伏

（2）减薄速度：>30μ / 小时（铜样品）

（3）气体：氩气（其它气体也可）

（4）气体流：<0.1sccm/数字控制

2、样品台倾斜度

0°~±90°

3、样品台

（1）普通样品台：样品直径：3  角度：7°~ ± 90°  （可旋转、摆动）

（2）抛光样品台：样品直径：3  角度：± 2°~ ± 90°  

（3）扫描用样品台：样品直径：28（选配件）

4、靶台

可使用不同靶极材料就地为TEM和SEM样品镀膜（选配件）

5、样品观察

（1）直接照明

（2）采用数字信号采集器

6、软件环境

Windows2000 / XP系统

7、软件

（1）质量流量控制系统

（2）高压控制系统

（3）真空度控制系统

（4）停机控制系统

8、硬件

（1）彩色触摸屏

（2）控制主机

（3）嵌入式主板

（4）GSM通信模块

（5）全数字控制气体质量流量器

9、真空系统

（1）机械泵和分子泵

（2）更换样品后二分钟内达到工作真空

（3）最高真空：<510-3Pa

（4）数字控制电阻及电离规

10、样品冷却

半导体冷却（选配件）