GVC-HM02 离子溅射仪

l GVC-HM022 全自动磁控离子溅射仪特点

1. 基本无温升、样品表面无热损失 GVC-HM02 制样效果图 其他制样设备效果图 下面两张图片为滤膜类样品的电镜图片，左侧图片为 GVC-02喷金后的电镜 观测图，可以看出，样品形貌真实完整，右侧图片为其他设备喷金后的电镜观测图 片，可以看出，热损伤严重，几乎无法识别为同种样品。

2. 颗粒更小，更适宜于高倍图像观测，适配场发射/高分辨场发射电镜

3. 低压大电流溅射， 全自动磁控离子溅射仪特点

 1. 全自动操作，简单易用，非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等 l 溅射电流自动调整——设定溅射电流后，系统自动调节真空度， 从而达到设定的溅射电流，调整时间＜5s，波动范围＜±5%； 无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”。

l 溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可；

l 参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射 时长，系统自动计算叠加，无需终止溅射过程；

l 工作完成自动放气；

l 样品台高度调节 1 秒完成；

l 溅射过程可以利用曲线显示，清晰直观。

2. 软硬件互锁，防误操作，安全可靠 l 真空度高于 100Pa，启动真空保护，无法溅射； l 溅射电流高于 50mA，停止溅射过程； l 真空泵工作时，系统无法进行放气操作；

3. 镀层均匀，导电性良好