BJHM-200

仪器功能

制备金、铂、银、铜、锡锌、铟、锑等导电膜

主要技术参数

溅射电流   5-45mA（标配）5-100mA（选配）

溅射时间   1-999s

真空室      φ130×130mm

工作介质  空气或氩气

靶材规格  φ57mm×0.12mm

输入电源   450W  220V/50Hz

真空调整   自动

真空室充气 自动

真空泵抽速  1.1L/s（旋片式真空泵）

选配          膜厚监控模块、涡旋干泵

应用领域

电镜制样、各种电极制备叉指电极、微电子器件功能陶瓷等

产品特点

无热损伤，适用所有样品，尤其适用温度敏感性样品

镀膜颗粒度小，适配所有型号场发射电镜

全自动操作，无需调节微调阀，简单易用

高可靠性、稳定性和重复性

具备真空互锁、真空保护、过流保护等功能，安全可靠

快速换靶，20秒以内完成，无需工具

快速调整样品台高度，5秒完成

抽气节拍快，工作效率高

高真空系统设计，抽气节拍小于2分钟

对安装环境无要求