凹坑仪YWD-100

  凹坑仪YWD-100用途:
作为电子显微镜样品制备前期预处理工具，凹坑仪被应用于制备透射电子显微镜样品的预减薄和扫描电子显微镜定位(精度微米级)减薄抛光。是最终应用离子减薄、离子抛光、离子刻蚀、电解抛光等技术制备出高质量电子显微镜样品重要保障仪器。
适用材料:
结构材料、无机材料、半导体材料、氧化物材料等，如金属材料、硅锗、镓砷化合物、氧化物、碳化物、硼化物、陶瓷、玻璃材料等。
  技术参数
研磨精度(z方向)       ±2μm    
研磨轮转速              0~1200 RPM    
旋转台转速              0~120RPM    
电源                         220v,50Hz;DC12V;60w